近日，上海芯上微装科技股份有限公司（amies）宣布了一项重大进展：其自主研发的首台350nm步进光刻机（型号ast6200）已正式完成出厂调试与验收，并发往客户现场。这一里程碑事件，标志着我国在高端半导体光刻设备领域，再次实现了关键性的突破，是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要一步。
核心性能亮点与技术突破
据官方介绍，这款AST6200光刻机专为功率器件、射频芯片、光电子以及Micro LED等先进制造场景量身定制。它搭载了大数值孔径的投影物镜，能够实现350nm的高分辨率，满足了当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺需求。
在核心性能上，该设备展现了高精度的套刻能力，确保了多层图形的精准对位。同时，其高速的直线电机传输系统和高精度的运动台系统，也大幅提升了单位时间的产能，有助于降低客户的整体拥有成本。
此外，该光刻机还具备强大的工艺适应性，能够兼容多种不同材质（如碳化硅、砷化镓、蓝宝石等）和多形态的基底，并能精准测量透明或大台阶的基底。
尤为关键的是，AST6200搭载了芯上微装完全自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理，均实现了自主可控，为构建全栈国产化生态奠定了坚实基础。
