本站 8 月 8 日消息，比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布，在其与 asml 合作的 high na euv 光刻实验室首次成功利用 high na euv 光刻机曝光了逻辑和 dram 的图案结构。在逻辑图案方面，imec 成功图案化了单次曝光随机逻辑机构，实现了 9.5nm 密集金属线（本站注：对应 19nm pitch），将端到端间距尺寸降低至 20nm 以下：
▲ 二维特征而在 DRAM 领域，imec 成功利用单次曝光图案化了集成 SNLP（Storage Node Landing Pad）和位线外围的 DRAM 设计，展现了 High NA EUV 减少曝光次数的能力：
▲ DRAM 设计imec 总裁兼首席执行官 Luc Van den hove 表示：
这些结果证实了 High NA EUV 光刻技术一直以来预测的分辨率能力，一次曝光即可实现 20nm 以下间距的金属层。
因此，High NA EUV 将对逻辑和存储器技术的尺寸扩展起到关键作用，这正是将路线图推向 "埃米时代" 的重要支柱之一。
这些早期演示之所以能够实现，要归功于 ASML-imec 联合实验室的建立，它使我们的合作伙伴能够加速将 High NA 光刻技术引入制造领域。
