英特尔18a工艺技术：量产之路挑战重重，但high-na euv光刻机带来曙光
在2025年国际固态电路会议(ISSCC)上，英特尔正式发布了备受瞩目的Intel 18A工艺技术，并宣称该技术已准备好满足客户需求，预计2025年上半年开始流片。然而，最新消息显示，Intel 18A工艺的量产之路面临严峻挑战。
据悉，正在进行测试的Panther Lake工程样品良品率仅为20%到30%，远低于大规模生产的要求。这使得英特尔原计划于2025年下半年实现量产的目标面临巨大压力。 除了Panther Lake，Clearwater Forest和Diamond Rapids也计划采用Intel 18A工艺，且美国国防部、亚马逊AWS和微软Azure等重要客户也依赖该制程节点，因此良品率问题的影响范围波及整个产业链。
尽管挑战重重，英特尔也传来利好消息。内部消息指出，新一代High-NA EUV光刻机表现出色，可靠性是上一代的两倍，并在短短一个季度内成功加工了3万片晶圆。这项技术将大幅简化生产流程，降低成本并缩短生产周期。英特尔计划利用High-NA EUV光刻机来完善Intel 18A技术，并为未来Intel 14A技术的量产做好准备。 Intel 18A工艺的最终量产时间及良品率仍存在不确定性，其发展进程值得持续关注。
