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尼康剑指半导体光刻市场龙头，计划于2028财年（2028年4月-2029年3月）推出全新ArF浸润式光刻系统。此举旨在挑战ASML的市场主导地位，并与ASML设备实现兼容。
尼康在2025年2月的财报中披露，正与多家主要半导体厂商合作研发该系统，预计2028年交付原型机，后续机型将于2030年后推出。
这款新系统将采用紧凑型平台设计、突破性的投影镜头技术和先进的晶圆平台，显著提升操作效率，并降低维护需求。虽然具体合作厂商尚未公布，但尼康强调系统的高速性能。
值得关注的是，新系统与现有ASML ArF浸润式光刻设备的兼容性，包括对ASML光掩模的支持。此举旨在降低客户转换成本，帮助尼康在竞争激烈的ArF浸润式光刻市场中扩大份额。
目前，全球ArF浸润式光刻系统市场主要由ASML和尼康两家厂商瓜分，ASML占据超过90%的市场份额。ASML的领先地位主要归功于其革命性的“双平台”技术，虽然增加了设备成本，却大幅提升了吞吐量。
尼康预测，随着半导体行业向DRAM和逻辑IC 3D集成转型，2028年起对ArF浸润式光刻系统需求将大幅增长。台积电、英特尔和三星等巨头将成为尼康潜在客户。
尼康的目标是在ArF浸润式光刻系统市场取得与ArF干式光刻机市场份额相当的成绩。目前，尼康在ArF干式光刻机市场占据超过10%的份额，而ASML仍占据主导地位。尼康希望将ArF浸润式光刻市场份额从个位数提升至两位数。
除此次新系统外，尼康还在半导体制造领域保持多元化产品布局，提供KrF和i-line光刻系统以及EUV光刻产品。（校对/李梅）
