本站 10 月 9 日消息，asml 新任 ceo 傅恪礼（christophe fouquet）出席 spie 大会并发表演讲，重点介绍了 high na euv 光刻机。他提到，high na euv 光刻机不太可能像最初的 euv 光刻机那样出现延迟。傅恪礼还谈到了组装扫描仪子组件的新方法，即直接在客户工厂安装，无需经历拆卸及再组装的过程。这将大大节省 asml 与客户之间的时间和成本，有助于加快 high na euv 光刻机的发的和交付。紧随其后上台的是英特尔院士兼光刻总监 mark phillips，他表示英特尔已经在波特兰工厂完成了两台 high na 光刻系统的安装，而且他还公布了一些资料，表明 high na euv 相对于标准 euv 光刻机所带来的改进可能要比之前想象中还要多。
以上就是英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装的详细内容，更多请关注php中文网其它相关文章！
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